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共焦磁控濺射系列
垂直磁控濺射系統
水平磁控濺射系統
In-line濺射系列
Cluster磁控濺射系列
蒸發系統
垂直磁控濺射系列
垂直濺射配置可以最小化顆粒污染,適合靶材產生高顆粒的工藝開發及任何生產環境。
具有高產能、高均勻性及工藝靈活性。
應用于航天、微電子、傳感器、汽車、光學及能源等領域。
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